设备简介：

      低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是在真空状态下，等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽真空达到30-40pa的真空度，再在高频发生器作用下，将气体进行电离，形成等离子体（物质第四态），其显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光，材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

    技术参数

    1、设备外形尺寸:450mm*400mm*240mm

    2、真空仓体尺寸:Φ151×300(L)mm（5L）

    3、仓体结构:不锈钢腔体，内置容性耦合电极，无污染，内置石英托盘。

    4、等离子发生器:射频，功率0-300W调节，全电路保护，连续长时间工作（风冷）。

    5、控制系统:PLC触摸屏全自动控制，采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制模式，真彩台达触摸屏，西门子可编程控制器（PLC），美国产真空压力传感系统，可在线设定、修改、监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数，并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式下设置各项工艺参数，即可一键启动，连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

工艺流程：

   1、处理工艺流程装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

   2、工艺控制：

2.1处理时间控制：1秒～120分钟连续可调。

2.2等离子放电压力：30～50Pa。

2.3功率设定范围：0～300W连续可调。

2.4流量设定范围：气体1（0～300ml/min）气体2（0～500ml/min）。

真空泵VRD-8

优秀的性能，整体式缸体结构，具有更高的精度，经验证的旋片技术，使性能更加稳定，确保系统具有更高的可能性

良好的散热，风冷结构，无需外接水冷箱，减少系统安装和维护成本

强制润滑，内置齿轮泵及恒压供油机构强制供油，高吸气压强下也能稳定可靠运行

多档气镇设计，满足客户的真空度要求和水蒸气的处理能力

氟橡胶密封件提高抗腐蚀性，解决漏油问题

双重防返油结构，自动防返油阀，更可靠地保护您的真空系统在停机后免受油的污染

高品质油雾过滤器，有效过滤油雾，保护环境清洁